第592章 美国人惹上这家人，真是倒了八辈子的血霉 (第2/3页)
一口水，语气轻松得像是在讨论晚饭吃什么。
倪光南愣了一下：“不用空气？那用什么？真空？”
“真空也不行，真空没有介质，折射率还是1。”旁边的老专家叹了口气，“陈先生，您是搞战略的，技术上的事……”
“我是不懂技术。”陈山走到实验台前，把那个装满水的纸杯放在了昂贵的光刻机镜头模型旁边。
他指了指杯子里的水。
陈山转过头，看着倪光南，“老倪，水的折射率是多少？”
倪光南下意识地回答：“纯水的折射率是1.44。”
话音刚落，倪光南的身体猛地僵住了。
就像是一道闪电，瞬间劈开了他混沌的大脑。
1.44。
公式：分辨率 = k1 * λ / NA。
如果介质的折射率从空气的1变成了水的1.44……
等效波长 = 193nm / 1.44 ≈ 134nm！
不需要研发新的光源！不需要等待那个遥不可及的157纳米激光！只要在镜头和硅片之间加一层水，现有的设备就能直接突破物理极限！
“水……”倪光南喃喃自语，瞳孔剧烈收缩，“在镜头和晶圆之间……加水？”
“疯了！这简直是疯了！”旁边的老专家惊叫起来，“电子设备最怕水！而且水会产生气泡，会污染光刻胶，高速运动下水的张力怎么解决？这在工程学上是自杀！”
“工程学的问题，只要肯砸钱，总能解决。”陈念站在一旁，淡淡地补了一刀，“但物理学的问题，砸钱也解决不了。”
陈念从公文包里拿出一份文件，那是陈山根据后世记忆整理的《关于浸没式光刻系统的可行性猜想》。
“爸说得对。”陈念把文件递给倪光南，“为什么非要死磕空气？”
倪光南颤抖着手接过文件，只看了第一页的示意图，呼吸就变得急促起来。
那是一个极其大胆、却又在理论上完美闭环的设计。
利用水的折射率，将193纳米的光源“欺骗”成134纳米。这不仅仅是技术的突破，这是思维维度的降维打击！
“快！快！”倪光南突然像个疯子一样大吼起来，把手里的图纸撕得粉碎，“把那台ASML的废机器抬过来！拆掉工件台！给我准备去离子水！我们要改装！”
“倪工，这可是价值千万的设备……”
“拆！出了事我负责！”倪光南一把推开阻拦的研究员。
……
凌晨四点。
实验室里一片狼藉。那台原本精密的ASML光刻机，此刻被改得面目全非。核心曝光区域被加上了一个简陋的、甚至是用玻璃胶密封的注水槽。
“注水完毕。无气泡。”
“液面稳定。”
“光源预热完成。”
所有人的心都提到了嗓子眼。
陈山依然坐在角落里，手里盘着核桃，神色平静。陈念则站在倪光南身后，目光紧锁着监视器。
“曝
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